氧压对脉冲激光沉积Si基ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 于威 傅广生 刘彩池 滕晓云 许贺菊 郝秋艳
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 氧压 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2|TN304.055
• 字数: 2567字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2007.z1.003

摘要

采用脉冲激光沉积法在Si(111)基片上制备了ZnO薄膜.利用X射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究工作氧压对ZnO薄膜的结晶特性和光学性能的影响.研究结果表明,氧压的增大,有助于更多的氧原子进入晶格,有效减少薄膜中的缺陷和应力,使ZnO薄膜结构趋于完整,但是过高的氧压将严重地影响薄膜的沉积速率,加剧衬底Si的氧化,从而使薄膜的结晶质量恶化.所有的ZnO薄膜均显示出较强的紫外发光蜂,并且结晶性与发光特性有很好的一致性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	刘彩池	河北工业大学材料学院	63	305	11.0	14.0
3	郝秋艳	河北工业大学材料学院	37	179	9.0	12.0
4	于威	河北大学物理科学与技术学院	91	346	9.0	13.0
5	许贺菊	河北大学物理科学与技术学院	7	31	3.0	5.0
6	滕晓云	河北大学物理科学与技术学院	21	214	5.0	14.0