碳纳米管和镓掺杂碳纳米管场发射性能研究

• 作者: 晁明举 李华洋 柳堃 梁二军 袁斌
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 化学
• 关键词: 碳纳米管 镓掺杂碳纳米管 场发射
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 181-184
• 页数: 4页
• 分类号: TB383|O643
• 字数: 2831字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2007.01.038

摘要

采用催化热解方法分别制备出碳纳米管和镓掺杂碳纳米管,并利用丝网印刷工艺将其制备成纳米管薄膜.对此薄膜进行低场致电子发射测试表明,碳纳米管和镓掺杂纳米管开启电场分别为2.22和1.0V/μm,当外加电场为2.4V/μm,碳纳米管发射电流密度为400μA/cm2,镓掺杂纳米管发射电流密度为4000μA/cm2.可见镓掺杂碳纳米管的场发射性能优于同样条件下未掺杂时的碳纳米管.对镓掺杂纳米管场发射机理进行了探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁斌	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	24	321	10.0	17.0
2	梁二军	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	135	1197	18.0	25.0
3	柳堃	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	3	26	2.0	3.0
4	李华洋	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	5	42	4.0	5.0
5	晁明举	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	68	737	18.0	23.0