平面型共振隧穿二极管的制作

• 作者: 张世林 梁惠来 胡留长 郭维廉
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 共振隧穿二极管 离子注入 峰谷电流比
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 微机电系统
• 页码范围: 197-199
• 页数: 3页
• 分类号: TN312.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2007.03.008

摘要

采用离子注入方法制作了一种新型平面共振隧穿二极管(RTD),通过离子注入将器件之间进行隔离,避免了传统台面型RTD中采用的台面刻蚀所带来的一些缺点,并且表现出良好的I-V特性,峰谷电流比为3.4.通过该方法制作的RTD将更有利于RTD的平面集成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张世林	天津大学电子信息工程学院	109	334	8.0	11.0
2	郭维廉	天津大学电子信息工程学院	145	419	10.0	12.0
3	梁惠来	天津大学电子信息工程学院	37	130	7.0	9.0
4	胡留长	天津大学电子信息工程学院	5	0	0.0	0.0