超支化聚酯用于负性光致抗蚀剂

• 作者: 朱小庆 柯旭 王跃川
• 来源期刊: 化工之友
• 学科: 工学
• 关键词: 超支化 聚酯 感光树脂 相对分子质量
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 页码范围: 39-40
• 页数: 2页
• 分类号: TQ31

摘要

采用偏苯三酸酐（TMA），甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）两种单体经一步法反应制备了一系列超支化聚酯负性光致抗蚀剂。采用GPC、FTIR对超支化聚酯的结构进行了初步表征，探讨了GMA用量、投料方式和反应温度对重均分子质量及其分子量分布的影响。结果表明，增加GMA用量和选用滴加原料的方式将使树脂重均分子量增大、分子量分布变宽，反应温度为90℃时，合适。测得优化工艺所制备的光刻胶的T0（初始曝光时间）为10s，Y　gel（反差值）为2．8。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王跃川	四川大学高分子科学与工程学院高分子材料工程国家重点实验室	80	520	11.0	19.0
2	柯旭	四川大学高分子科学与工程学院高分子材料工程国家重点实验室	3	7	2.0	2.0
3	朱小庆	四川大学高分子科学与工程学院高分子材料工程国家重点实验室	2	3	1.0	1.0