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高性能导电薄膜的制备
高性能导电薄膜的制备
作者:
张树人
赵靖
郭太良
陈国良
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
附着性
氧化
晶粒
电学性能
摘要:
采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了Cr-Cu-Al-Cr薄膜,用焊接法测试薄膜附着性能,用X射线衍射仪、原子力显微镜和台阶仪对薄膜进行表征,研究溅射过程中以及在高温大气环境下薄膜的防氧化方法,分析薄膜晶粒大小与电性能关系,制备出性能较好的导电膜.
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文献信息
篇名
高性能导电薄膜的制备
来源期刊
真空电子技术
学科
物理学
关键词
附着性
氧化
晶粒
电学性能
年,卷(期)
2007,(1)
所属期刊栏目
研究与设计
研究方向
页码范围
12-16
页数
5页
分类号
O484
字数
2948字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2007.01.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郭太良
福州大学物理与信息工程学院
302
1102
15.0
21.0
2
赵靖
福州大学物理与信息工程学院
2
6
1.0
2.0
3
张树人
福州大学物理与信息工程学院
2
5
1.0
2.0
4
陈国良
福州大学物理与信息工程学院
3
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3.0
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引文网络
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二级引证文献(0)
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二级引证文献(1)
2011(1)
引证文献(0)
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2017(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
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节点文献
附着性
氧化
晶粒
电学性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
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