有机聚合物光波导光刻工艺的优化

• 作者: 崔一平 恽斌峰 胡国华 陈金明
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 聚合物光波导 光刻工艺 曝光量 曝光后烘焙
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 长三角光子技术与应用论坛会议论文
• 页码范围: 224-227
• 页数: 4页
• 分类号: O472+8
• 字数: 2846字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2007.04.003

摘要

针对RZJ-304(25 mp.s)型正性光刻胶,对芯层为PMMA的光波导材料,研究接触式光刻机提高光刻分辨率的方法.分别采用不同的曝光强度和曝光时间来改变曝光量,研究其对光刻图形宽度的影响;并通过改变曝光后烘焙(PEB)的温度和时间以及采用不同的显影时间,研究了其对光刻图形宽度的影响,从而得出优化的光刻工艺参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔一平	东南大学先进光子学中心	160	1201	18.0	26.0
2	恽斌峰	东南大学先进光子学中心	28	218	8.0	14.0
3	胡国华	东南大学先进光子学中心	21	71	4.0	8.0
4	陈金明	东南大学先进光子学中心	2	31	2.0	2.0