磁控溅射靶的磁路设计

• 作者: 王经权 陈庆川 韩大凯
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 磁路 膜的均匀性
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 14-17
• 页数: 4页
• 分类号: O44
• 字数: 2632字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.06.004

摘要

磁控溅射是现代最重要的镀膜方法之一,具有简单,控制工艺参数精确和成膜质量好等特点.然而也有靶材利用率低、成膜速率低和离化率低等缺点.研究表明磁场结构对上述问题有重要影响,本文介绍了一种磁控溅射靶磁路优化设计方案.并对改进的磁场结构和一般的磁场结构进行了分析比较,并给出了实验结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈庆川		23	63	5.0	7.0
2	韩大凯		9	41	4.0	6.0
3	王经权		1	10	1.0	1.0