金纳米粒子作掩模的硅纳米柱阵列的加工

• 作者: 张亚非 王英 赵保军
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 自组装 金纳米粒子 纳米柱阵列 反应离子刻蚀
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 24-27,31
• 页数: 5页
• 分类号: TN29
• 字数: 3963字
• 语种: 中文

摘要

利用自组装的方法在硅基片表面形成一层均匀的金纳米粒子掩模,分析了偶联剂对自组装的影响,以金纳米粒子作掩模进行反应离子刻蚀,研究了刻蚀时间对硅纳米柱阵列的影响,提供了一种简单、便宜并且有效的在硅基底上大面积形成纳米柱阵列的纳米加工方法.实验中发现,超过一定刻蚀时间时,有过刻蚀现象发生,在120 s刻蚀时间下,得到了直径小于20 nm,深宽比高达10∶1以上规则、致密、大面积分布的硅纳米柱或硅纳米锥状结构.