直流磁控溅射制备铝薄膜的工艺研究

• 作者: 郭太良 陈国良
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 铝薄膜 沉积速率 多晶态 表面形貌
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3143字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.06.010

摘要

采用直流磁控溅射方法,以高纯Al为靶材,高纯Ar为溅射气体,在玻璃衬底上成功地制备了铝薄膜,并对铝膜的沉积速率、结构和表面形貌进行了研究.结果表明:Al膜的沉积速率随着溅射功率的增大先几乎呈线性增大而后缓慢增大;随着溅射气压的增加,沉积速率先增大,在一定气压时达到峰值后继续随气压的增大而减小.X射线衍射图谱表明Al膜结构为多晶态;用扫描电子显微镜对薄膜进行表面形貌的观察,溅射功率为2600 W,溅射气压为0.4 Pa时制备的Al膜较均匀致密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭太良	福州大学物理与信息工程学院	302	1102	15.0	21.0
2	陈国良	福州大学物理与信息工程学院	3	29	2.0	3.0