波导模场分布采用模式匹配的PML处理方法

• 作者: 徐旻 杨盈莹
• 来源期刊: 电光与控制
• 学科: 工学
• 关键词: 理想匹配层(PML) 边界条件 模式匹配 模场分布
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 工程应用
• 页码范围: 110-112
• 页数: 3页
• 分类号: V271.4|TN011
• 字数: 2001字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-637X.2007.02.031

摘要

理想匹配层(PML)是近年来迅速发展起来的一种非常有效的吸收边界.本文基于模式匹配法将PML吸收边界条件用于平面光波导结构计算中,从理论上分析了PML吸收边界条件的有效性,并在PML边界条件下模拟计算了一个三段平面光波导结构的模场分布.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐旻		2	1	1.0	1.0
2	杨盈莹		1	1	1.0	1.0