一种全靶腐蚀磁控溅射设备

• 作者: 吴志明 王涛 王秋来 郝万顺 黄文符
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 全靶腐蚀 磁场模拟
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3270字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.06.005

摘要

传统的磁控溅射设备由于等离子体在靶面形成跑道效应,所以存在着靶材利用率低,反应溅射过程中稳定性差的问题.M.J.Thwaites提出了一种利用磁场将等离子体产生与溅射分开的结构,本文基于这种结构构造了一个实验平台对其进行了研究,实现了全靶腐蚀,提高了系统的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志明	电子科技大学光电学院	78	544	13.0	17.0
2	王涛	电子科技大学光电学院	55	346	11.0	14.0
3	郝万顺	电子科技大学光电学院	1	4	1.0	1.0
4	王秋来		1	4	1.0	1.0
5	黄文符		1	4	1.0	1.0