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摘要:
本文用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混合液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PET模板.讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响.结果表明:随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加,PET基膜更易被腐蚀.IR、DSC测量结果表明:辐照导致化学键的断裂、非晶化转变,是导致辐照PET薄膜的腐蚀失重率增加的原因.用此方法制备了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板.
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文献信息
篇名 电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板
来源期刊 核技术 学科 化学
关键词 模板 PET 掩膜 电子束蚀刻 腐蚀
年,卷(期) 2007,(11) 所属期刊栏目 低能加速器技术、射线技术及应用
研究方向 页码范围 952-955
页数 4页 分类号 O633.14|O571.33|Q691.2
字数 2931字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-3219.2007.11.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周瑞敏 上海大学射线应用研究所 22 110 6.0 9.0
2 郝旭峰 上海大学射线应用研究所 3 13 2.0 3.0
3 吴新锋 上海大学射线应用研究所 3 5 1.0 2.0
4 周菲 上海大学射线应用研究所 4 13 2.0 3.0
5 邓邦俊 上海大学射线应用研究所 3 7 2.0 2.0
6 费舜廷 上海大学射线应用研究所 3 7 2.0 2.0
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研究主题发展历程
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模板
PET
掩膜
电子束蚀刻
腐蚀
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
核技术
月刊
0253-3219
31-1342/TL
大16开
上海市800-204信箱
4-243
1978
chi
出版文献量(篇)
4560
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14
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