Cr在多弧离子镀(Ti, Cr)N复合膜中的作用

• 作者: 史新伟 张鑫 李春明 邱万奇
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 Cr TiN
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 48-50
• 页数: 3页
• 分类号: TB3|TB43
• 字数: 2054字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.02.012

摘要

利用AIP-01多弧离子镀膜机,通过改变铬靶电流,在高速钢基体上沉积出不同Cr含量的(Ti,Cr)N复合膜涂层,用扫描电子显微镜、微纳米力学测试仪和X射线对薄膜的表面颗粒、硬度及内应力进行了分析.结果表明:薄膜中添加Cr能减小表面颗粒尺寸,提高硬度,当Cr的含量达到31%(wt%)时,薄膜硬度达到最高值,此时薄膜的内应力也最大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春明	华南理工大学机械工程学院	16	97	6.0	9.0
2	史新伟	华南理工大学机械工程学院	6	73	4.0	6.0
3	邱万奇	华南理工大学机械工程学院	67	339	9.0	15.0
4	张鑫	华南理工大学机械工程学院	17	70	5.0	8.0