等离子体刻蚀处理大面积金刚石薄膜

• 作者: 冉均国 苟立 郑元元
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 大面积金刚石膜 微波等离子体 等离子体后处理 电阻率
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: TQ163.2
• 字数: 2429字
• 语种: 中文

摘要

平整均匀的大面积金刚石膜是其在电子领域工业化应用的前提.采用微波等离子体化学气相沉积装置,分别用氢气、氮气加空气、氧气对大面积金刚石膜进行了等离子体处理,通过表面形貌和电阻率的均匀性表征金刚石膜的均匀性,用电阻率的大小表征绝缘性,并采用原子力显微镜测量膜的表面粗糙度.用氮气加空气处理后,金刚石膜的电阻率提高了5个数量级,达到了1013 Ω·cm,更好地满足了电子器件对绝缘性的要求,且均匀性较好,表面粗糙度Ra为90 nm～111 nm,但平整性仍须改进.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苟立	四川大学材料科学与工程学院	100	858	13.0	25.0
2	冉均国	四川大学材料科学与工程学院	130	1122	16.0	28.0
3	郑元元	四川大学材料科学与工程学院	2	7	2.0	2.0