新型场发射器件中栅极的化学刻蚀制备

• 作者: 陈静 雷威
• 来源期刊: 东南大学学报（英文版）
• 学科: 工学
• 关键词: 碳纳米管场发射器件 栅极 化学腐蚀 玻璃小孔
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 页码范围: 241-243
• 页数: 3页
• 分类号: TN104.3
• 字数: 678字
• 语种: 英文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7985.2007.02.018

摘要

为了得到碳纳米管场发射器件的三极结构,设计了一种新型栅极.在电极的制作过程中使用普通的丝网印刷方法,然后运用化学刻蚀的手段进行双面刻蚀制备出带有小孔阵列的栅极.在栅极制作过程中通过改变酸液刻蚀的时间和浓度,可以腐蚀出不同形状的小孔.运用扫描电镜(SEM)和红外光谱(IR)分析,得到小孔的尺寸、形貌和刻蚀液的成份,然后在三极结构上加电压显示出孔的亮度图像,最后对器件结构进行模拟,算出在电场条件下的电子从阴极拉到阳极基板的轨迹.模拟结果和实验结果一致,从而实现了对场发射三极器件的优化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷威	东南大学电子科学与工程学院	89	538	12.0	18.0
2	陈静	东南大学电子科学与工程学院	27	108	5.0	9.0