Ni-Al薄膜的制备和电性能研究

• 作者: 周继承 朱金波 李文娟
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体技术 磁控共溅射 金属间化合物 Ni-Al纳米晶薄膜 电阻温度系数
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TN4
• 字数: 4411字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2007.01.013

摘要

用双靶直流磁控共溅射制备了NixAl(1-x)(0.75＜x＜0.8)金属间化合物薄膜及掺氧Ni-Al薄膜.利用AFM、SEM-EDS、XRD对Ni-Al合金薄膜的表面形貌、组分和晶相结构进行了表征和分析.结果表明,制备的合金薄膜表面致密平整,结晶良好,且具有(111)择优取向.合金薄膜电阻随温度呈线性变化,表现为正的电阻温度系数.氧气的引入阻碍了薄膜的晶化过程使薄膜表面粗糙度增加,晶粒细化,薄膜具有不同于合金薄膜的导电机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周继承	中南大学物理科学与技术学院	96	780	15.0	21.0
2	李文娟	中南大学物理科学与技术学院	12	72	5.0	8.0
3	朱金波	中南大学物理科学与技术学院	4	22	2.0	4.0