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单晶片离子注入机垂直扫描机构差分密封的设计
单晶片离子注入机垂直扫描机构差分密封的设计
作者:
刘求益
胡代群
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
离子注入机
扫描机构
差分密封
摘要:
对垂直扫描机构差分式密封进行了设计和计算.差分式密封是非接触动密封,垂直扫描机构中,轴和轴套之间有微小的间隙,轴套上有两级差分抽气室,通过微小的间隙和两级差分抽气室,密封气体被两级真空泵抽出.这种密封能实现无摩擦、性能好的密封,能最大程度满足晶片处理过程中对靶室高真空度及金属颗粒的要求.
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离子注入机
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期刊文献
内容分析
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(/年)
文献信息
篇名
单晶片离子注入机垂直扫描机构差分密封的设计
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
离子注入机
扫描机构
差分密封
年,卷(期)
2007,(2)
所属期刊栏目
工艺与应用
研究方向
页码范围
38-40,44
页数
4页
分类号
TN105
字数
2222字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2007.02.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
胡代群
湘潭大学机械工程学院
2
0
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刘求益
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研究主题发展历程
节点文献
离子注入机
扫描机构
差分密封
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
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8712
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