超精密抛光中合适参量抛光粉的选择

• 作者: 冯国英 刘夏来 刘民才 杨李茗 杨浩 韩敬华 高胥华
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学材料 抛光 超光滑表面 粒度分布 表面疵病
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 设计与工艺
• 页码范围: 69-71
• 页数: 3页
• 分类号: TG5
• 字数: 2976字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7008.2007.01.022

摘要

在超精密抛光加工过程中,抛光粉参量对抛光质量的影响很大.试验研究抛光粉主要参量随抛光时间的变化规律,得到了适合超精密抛光的抛光粉参量的主要特点.根据抛光原理分析了抛光粉的主要参量对抛光表面的作用机理,提出一种选择适于抛光的合适参量抛光粉的方法.结果表明,利用该方法选择的抛光粉可稳定地加工出高质量的超光滑表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯国英		206	899	13.0	20.0
2	杨李茗		35	223	9.0	12.0
3	韩敬华		41	199	8.0	12.0
7	刘民才		5	83	4.0	5.0
8	杨浩		26	142	7.0	11.0
9	高胥华		3	14	2.0	3.0
10	刘夏来		1	7	1.0	1.0