预氧化在离子注入与水热处理制备羟基磷灰石活性层中的作用

• 作者: 丁洪峰 万怡灶 何芳 穆锟 薛强 黄远
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 表面改性 离子注入 水热处理 羟基磷灰石
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 27-30
• 页数: 4页
• 分类号: TB333|TG174.444
• 字数: 2841字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6051.2007.09.007

摘要

分别将钙、磷离子以110 keV、80 keV的能量和2×1017ion/cm2、1×1017ion/cm2的剂量注入纯钛基体,并与水热处理结合制备钛表面羟基磷灰石(HAp)改性层.为研究预氧化在离子注入与水热处理制备羟基磷灰石活性层中的作用,将预氧化试样与未氧化抛光试样一起进行了钙、磷离子注入和水热处理,并利用SEM进行形貌观察,AES、EDS、XRD和FTIR进行元素及物相结构分析.结果表明,经过预氧化处理的试样表面生成了球状HAp改性层.另外,水热处理温度、压强和钙、磷注入顺序也会对HAp的形成产生影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万怡灶	天津大学材料科学与工程学院	84	969	19.0	26.0
2	黄远	天津大学材料科学与工程学院	40	440	14.0	20.0
3	何芳	天津大学材料科学与工程学院	30	264	9.0	16.0
4	薛强	天津大学材料科学与工程学院	6	42	3.0	6.0
5	丁洪峰	天津大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
6	穆锟	天津大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0