电化学外延生长亚稳态Co薄膜的结构和磁性表征

• 作者: 孙秀玉 张文华 徐法强 李宗木 王立武
• 来源期刊: 金属功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 电化学沉积 循环伏安法 Co磁性薄膜 光电子能谱
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: O484.43
• 字数: 3373字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-8192.2007.06.002

摘要

用循环伏安法在单晶Cu(110)上沉积了亚稳态fcc相的Co磁性薄膜,并用法拉第定律估算了薄膜的厚度约为17 nm.X射线衍射结果表明薄膜具有(100)的单一取向结构,而用同样方法沉积在多晶Pt片上的Co薄膜则是六方多晶结构.用扫描电子显微镜、X射线以及同步辐射光电子能谱对薄膜的表面形貌、组成以及元素的化学态进行了表征,结果表明循环伏安法制备的薄膜平整连续,Co薄膜没有明显的氧化现象;磁性测量结果表明外延生长的薄膜具有典型的软磁特征,矫顽力约为100 Oe,剩磁比约0.86.软X射线磁性圆二色实验结果计算得到Co薄膜的自旋磁矩和轨道磁矩非常接近于Co体相材料的数据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐法强	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	41	370	7.0	18.0
2	张文华	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	28	378	8.0	19.0
3	王立武	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	5	39	3.0	5.0
4	李宗木	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	8	77	3.0	8.0
5	孙秀玉	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	4	85	3.0	4.0