Ti-O化合物制备TiO2薄膜热处理及透射率研究

• 作者: 张光勇 王汉华 薛亦渝 郭培涛 马中杰
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2光学薄膜 退火 氧流量 透射率
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 45-48,53
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2939字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2007.02.012

摘要

采用离子束辅助蒸发,以TiO2,Ti3O5,Ti2O3为膜料,制备了具有良好光学透射性的TiO2薄膜.结果分析表明,所制备出的TiO2薄膜均为非晶态结构,退火后薄膜发生晶化均具有明显的(101)择优取向;晶化的程度和退火温度的高低有关;退火处理之后以TiO2,Ti3O5为膜料制备的薄膜透射率下降,而以Ti2O3为膜料的上升;膜料不同对氧的需求量不同:以TiO2,Ti3O5为膜料制备薄膜所需氧量,远小于以Ti2O3为膜料所需氧量,氧流量过多降低了薄膜的透射性能,且随氧流量的不同,薄膜的透射率曲线均发生偏移,膜料不同偏移度也不同.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛亦渝		48	532	13.0	21.0
2	王汉华		5	31	3.0	5.0
3	郭培涛		20	74	5.0	8.0
4	张光勇		5	31	3.0	5.0
5	马中杰		6	31	3.0	5.0