AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究

• 作者: 冯晋阳 吴贝 赵修建
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 高纯铝 电化学抛光 AAO模板 硫酸-磷酸-乙二醇体系
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 轻金属表面精饰
• 页码范围: 35-37,51
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.5
• 字数: 2302字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2007.04.011

摘要

研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺.确定了电化学抛光体系的配方.探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响.获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25 A/dm2,θ=85～93 ℃,t=10～15 min,机械搅拌.新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵修建	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	220	2735	25.0	43.0
2	冯晋阳	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	18	195	8.0	13.0
3	吴贝	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	5	17	2.0	4.0