多孔硅后处理对其镶嵌染料光学特性的影响

• 作者: 倪梦莹 徐金东 李清山
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 光致发光 能量转移 傅立叶红外吸收光谱 香豆素102
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 594-598
• 页数: 5页
• 分类号: O482.31
• 字数: 2977字
• 语种: 中文

摘要

对多孔硅进行真空退火处理和暴露大气快速退火处理,将有机染料香豆素102(C102)镶嵌其中,研究镶嵌复合膜发光特性的变化.通过比较多孔硅退火处理前、后傅立叶红外(FT-IR)吸收光谱的变化,从多孔硅与镶嵌染料分子间的能量传递方式角度出发,解释了PS表面态氧化能改善镶嵌复合膜发光特性的原因.实验通过改变多孔硅表面态,提高了复合膜的发光效率和多孔硅基体的透明程度,证明了多孔硅是一种良好的载体,在发展固体激光器方面有一定的应用,同时为实现硅基蓝绿发光开辟一条新的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李清山	曲阜师范大学物理工程学院	57	249	9.0	12.0
2	徐金东	曲阜师范大学物理工程学院	14	71	5.0	8.0
4	倪梦莹	曲阜师范大学物理工程学院	8	40	3.0	6.0