V+注入TiO2光催化薄膜的性能研究

• 作者: 侯兴刚 刘安东
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 离子注入 紫外-可见光谱 可见光光催化
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 低能加速器技术、射线技术及应用
• 页码范围: 647-651
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3400字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2007.08.003

摘要

采用V+注入方法制备了能够吸收可见光的TiO2薄膜.紫外-可见光谱表明,随着V+注入量的增加,TiO2薄膜的光学带隙宽度减小.对注入后的TiO2薄膜退火可进一步减小光学带隙宽度.荧光光谱和可见光光催化实验表明,V+注入量为1×1016 /cm-2时,TiO2薄膜有最佳可见光光催化降解能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯兴刚		6	53	4.0	6.0
2	刘安东		10	52	4.0	7.0