氧分压对Zno薄膜结构、光学和电学特性的影响

• 作者: 于威 傅广生 张丽 张锦川 滕晓云 许贺菊
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 螺旋波等离子体 氧分压
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2|TN304.055
• 字数: 3299字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2007.z1.007

摘要

采用螺旋波等离子体辅助射频溅射技术在Al203衬底的(0001)面上制备了ZnO薄膜.通过对其结构,光学及电学性质的分析,探讨了氧分压对薄膜生长及其特性的影响.结果表明,由于等离子体对反应气体的活化及载能粒子对表面反应的辅助作用,采用该等离子体辅助溅射技术能够在合适的氧分压下制得较高质量的ZnO薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	于威	河北大学物理科学与技术学院	91	346	9.0	13.0
3	张丽	河北大学物理科学与技术学院	48	166	7.0	11.0
4	许贺菊	河北大学物理科学与技术学院	7	31	3.0	5.0
5	滕晓云	河北大学物理科学与技术学院	21	214	5.0	14.0
6	张锦川	河北大学物理科学与技术学院	5	11	2.0	3.0