电磁屏蔽膜设备的开发及应用

• 作者: 戴晋福 朱建明
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 电磁屏蔽 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 73-74
• 页数: 2页
• 分类号: O484
• 字数: 2053字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2007.03.018

摘要

介绍了国内外对电磁屏蔽膜(EMI)研究的现状,比较了制备EMI膜的各种方法,指出采用磁控溅射法制备的EMI膜质量较好,并给出制备EMI膜的工艺流程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱建明		1	1	1.0	1.0
2	戴晋福		1	1	1.0	1.0