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摘要:
介绍了国内外对电磁屏蔽膜(EMI)研究的现状,比较了制备EMI膜的各种方法,指出采用磁控溅射法制备的EMI膜质量较好,并给出制备EMI膜的工艺流程.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 电磁屏蔽膜设备的开发及应用
来源期刊 真空电子技术 学科 物理学
关键词 薄膜 电磁屏蔽 磁控溅射
年,卷(期) 2007,(3) 所属期刊栏目 工艺与应用
研究方向 页码范围 73-74
页数 2页 分类号 O484
字数 2053字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2007.03.018
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱建明 1 1 1.0 1.0
2 戴晋福 1 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
薄膜
电磁屏蔽
磁控溅射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
出版文献量(篇)
2372
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7
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8712
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