NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜结构中磁性层厚度对巨磁阻抗效应的影响

• 作者: 姜宏伟 孙智勇 王艾玲 赵志明 郑鹉
• 来源期刊: 金属功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 巨磁阻抗 坡莫合金 多层膜
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: O484.43
• 字数: 1571字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-8192.2007.03.004

摘要

在康宁玻璃上用真空蒸镀法沉积NiFeSiMnMo/Cu/NiFeSiMnMo多层膜,对所沉积单层膜的软磁性能随膜厚的变化和多层膜的巨磁阻抗效应随磁性层(NiFeSiMnMo)厚度的变化进行分析.实验结果表明:NiFeSiMnMo单层膜随厚度的增加,矫顽力增大,软磁性能变差;退火后的多层膜的纵向巨磁阻抗比(GMI ratio)的最大值随磁性层NiFeSiMnMo的厚度增加而增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵志明	西安理工大学材料学院	22	50	4.0	6.0
2	郑鹉	首都师范大学物理系	55	134	7.0	9.0
3	姜宏伟	首都师范大学物理系	30	107	7.0	9.0
4	王艾玲	首都师范大学物理系	24	64	6.0	7.0
5	孙智勇	西安工业大学数理系	5	8	1.0	2.0