不透明薄膜厚度的光干涉法测量以及台阶的影响

• 作者: 周红 戴华 沈耀
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 膜厚测量 光干涉法 数字化测量 台阶制备
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 8-12
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 5231字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.05.002

摘要

提出使用数字CCD拍摄光干涉条纹,使用图像处理软件进行灰度值扫描分析光干涉条纹的方法,对不透明薄膜进行光干涉法测厚.数字CCD和图像处理软件的结合使用能够最大限度的降低目测带来的误差,并且也避免了使用复杂的干涉条纹提取算法,可以方便、准确地对不透明薄膜进行光干涉法测厚.同时我们使用光干涉法和轮廓仪法对不同高度遮挡物形成的台阶进行了对比测量,分析了不同台阶边缘斜坡对于光干涉法测量结果的影响,指出在制备台阶时遮挡物的高度必须满足一定的条件,并且根据这个条件推导出在我们的磁控溅射设备中,遮挡物高度小于50 μm可以得到满足光干涉法测厚条件的台阶.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈耀	上海交通大学材料学院	24	75	4.0	8.0
2	周红	上海交通大学物理系	26	176	4.0	13.0
3	戴华	上海交通大学材料学院	1	4	1.0	1.0