锰铬体掺杂氧化铝陶瓷及其金属化

• 作者: 曾敏 游小凤 赵鑫 雷杨俊
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铝陶瓷 体掺杂 表面性能 金属化
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: TB756
• 字数: 2210字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2007.01.013

摘要

基于95%氧化铝陶瓷开展锰铬体掺杂改性,掺杂后陶瓷样品的表面二次电子发射系数明显减小,表面电阻率显著降低,从而使其具有更高的表面绝缘能力(真空中).针对锰铬体掺杂陶瓷样品开展了金属化试验,结果表明:通过对金属化膏剂配方和工艺的适当调整,体掺杂陶瓷的金属化效果良好,气密性和机械强度均满足使用要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾敏		12	80	4.0	8.0
2	雷杨俊		15	65	4.0	7.0
3	游小凤		5	13	2.0	3.0
4	赵鑫		1	4	1.0	1.0