基片温度对Ni80Fe20薄膜结构和各向异性磁电阻的影响

• 作者: 孙文博 沙文杰 王合英 陈欢
• 来源期刊: 金属功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: Ni80Fe20薄膜 基片温度 结构 各向异性磁电阻
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: O484.43
• 字数: 3727字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-8192.2007.02.001

摘要

本文用磁控溅射方法制备出一系列Ni80Fe20磁性薄膜,研究不同基片温度对薄膜结构和各向异性磁电阻的影响.基片温度在150～180 ℃时制备的Ni80Fe20薄膜具有较大的各向异性磁电阻效应和较低的磁化饱和场.X射线衍射仪和扫描电子显微镜测量结果表明,基片温度通过改变薄膜的晶体结构、晶粒大小和均匀性等微观结构改变薄膜的零场电阻率和各向异性磁电阻,文章对实验结果做出了详细分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王合英	清华大学物理系	30	149	7.0	10.0
2	孙文博	清华大学物理系	27	143	7.0	10.0
3	陈欢	清华大学物理系	4	37	3.0	4.0
4	沙文杰	清华大学物理系	1	10	1.0	1.0