直流等离子体喷射CVD技术制备自支撑金刚石膜的新结构和新形貌

• 作者: J.C.Askari 兰昊 吕反修 宋建华 戴风伟 李彬 李成名 薛前进 陈广超 黑立富
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 层结构 刻面 甲烷/氢气 直流等离子体喷射CCD
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 页码范围: 1123-1126
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2007.05.032

摘要

采用30kW高功率直流等离子体喷射CVD技术制备了自支撑金刚石膜的新型结构,通过使甲烷与氢气的浓度比随沉积时间变化的方法,制备了两层、三层和四层结构.扫描电镜结果显示所制备的层结构是由柱状晶和非常细晶粒组成的,而拉曼谱结果表明这层细晶粒具有纳米金刚石的激光散射特征.在甲烷与氢气的浓度比超过15%的沉积条件下,我们发现一种新形貌,这种形貌是由具有非常好的刻面的晶粒构成的.