M型阴极离子斑扫描电镜分析

• 作者: 张永清 张洪来 阴生毅
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: M型阴极 离子轰击 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺与应用
• 页码范围: 60-62
• 页数: 3页
• 分类号: TN108|TN12
• 字数: 2410字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2007.03.015

摘要

采用扫描电镜及X射线能谱仪对覆膜阴极的离子斑进行了分析.分析表明,阴极离子斑中心部分的贵金属覆膜(Os膜)已被完全溅射掉;离子斑周边覆膜仍保留一部分,但Ba和O的含量极低.进一步分析表明,离子轰击不仅使离子斑区域贵金属膜受损,同时使该区域Ba-O键的含量大幅度降低,从而导致该区域及整个阴极的发射出现明显下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张永清	中国科学院电子学研究所微波器件中心	32	207	8.0	14.0
2	阴生毅	中国科学院电子学研究所微波器件中心	18	101	6.0	9.0
3	张洪来	中国科学院电子学研究所微波器件中心	10	89	5.0	9.0