一种新型酞菁类光蚀刻记录材料的光生酸性质研究

• 作者: 宾月景 张复实 黄新 黄蕾
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 工学
• 关键词: 化学增幅抗蚀剂 光生酸剂 光催化 酞菁
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 142-146
• 页数: 5页
• 分类号: TQ57
• 字数: 1778字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2007.02.009

摘要

通过研究对甲苯磺酸酯空心酞菁的性质,发现该化合物在紫外光照射下可生酸,是一种光生酸剂.由于酞菁类化合物本身具有光催化氧化反应的性能,因此这类光生酸剂在光蚀刻技术中将有很好的应用潜能.