利用HWCVD在柔性衬底上制备多晶硅薄膜

• 作者: 常艳 杨德仁 汪雷 陈官壁
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 柔性衬底 多晶硅薄膜 热丝化学气相沉积 太阳电池
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 475-478
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 3518字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2007.06.005

摘要

通过热丝化学气相沉积法(Hot Wire Chemical Vapor Deposition,HWCVD),采用间歇供应硅烷气体,持续通入氢气的方式控制硅薄膜的生长,发现该方法在有机衬底上生长的薄膜结构为多晶相占主导地位.此外,研究了不同间歇周期条件下薄膜的形貌和结构,并对生长机理进行了解释和讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨德仁	浙江大学硅材料国家重点实验室和材料科学与工程系	180	1513	20.0	31.0
2	汪雷	浙江大学硅材料国家重点实验室和材料科学与工程系	41	646	13.0	25.0
3	常艳	浙江大学硅材料国家重点实验室和材料科学与工程系	7	87	4.0	7.0
4	陈官壁	浙江大学硅材料国家重点实验室和材料科学与工程系	1	14	1.0	1.0