氧分压对磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及光学特性的影响

• 作者: 孙小菁 张国恒 徐小丽 陈彦 马书懿 魏晋军
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 X射线衍射 光学特性 量子限域
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 730-735
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1|O484.41
• 字数: 4600字
• 语种: 中文

摘要

采用射频反应磁控溅射法在玻璃衬底上成功制备出具有c轴高择优取向的ZnO薄膜,利用X射线衍射及紫外-可见吸收和透射光谱研究了氧分压变化对ZnO薄膜的微观结构及光吸收特性的影响.结果表明,当工作气压恒定时,用射频反应磁控溅射制备的ZnO薄膜的生长行为主要取决于成膜空间中氧的密度,合适的氧分压能够提高ZnO薄膜的结晶质量;薄膜在可见光区的平均透过率达到90%以上,且随着氧分压的增大,薄膜的光学带隙发生了一定程度的变化.采用量子限域模型对薄膜的光学带隙作了相应的理论计算,计算结果与对样品吸收谱所作的拟合结果符合较好,二者的变化趋势完全一致,表明ZnO纳米晶粒较小时,薄膜光学带隙的变化与量子限域效应有很大关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马书懿	西北师范大学物理与电子工程学院	69	226	8.0	11.0
2	徐小丽	西北师范大学物理与电子工程学院	10	63	4.0	7.0
3	陈彦	西北师范大学物理与电子工程学院	7	55	3.0	7.0
4	孙小菁	西北师范大学物理与电子工程学院	10	65	4.0	8.0
5	魏晋军	西北师范大学物理与电子工程学院	19	66	4.0	8.0
6	张国恒	西北师范大学物理与电子工程学院	8	62	4.0	7.0