HWE生长条件对CdTe/Si薄膜结构特性的影响

• 作者: 刘祖明 夏朝凤 姚朝晖 宋一得 廖华 袁海荣 陈庭金
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 热壁外延 生长条件 CdTe薄膜 结构特性
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 386-390
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.22
• 字数: 3499字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2007.03.023

摘要

研究了热壁外延(HWE)生长条件对Si(100)衬底上沉积外延的多晶CdTe薄膜的晶粒尺寸和取向的影响.用SEM和XRD技术分析了不同外延时间、不同衬底温度及不同源温下外延膜的表面形貌和结构特征.SEM发现随着外延时间的增加或衬底温度的提高,晶粒尺寸明显增大;XRD显示所有的外延薄膜均为面心立方结构,并高度显示优势取向(111),且随着衬底温度或薄膜厚度的增加,(111)峰的衍射强度增加,显示薄膜的择优取向更好.其原因是面心立方结构中,(111)表面具有的表面自由能最低.通过对不同外延时间下薄膜厚度的测试发现,薄膜具有加速生长趋势.衬底温度及源温对外延层厚度均有较大的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈庭金	云南师范大学太阳能研究所	42	351	10.0	17.0
2	刘祖明	云南师范大学太阳能研究所	60	483	12.0	20.0
3	夏朝凤	云南师范大学太阳能研究所	60	815	15.0	27.0
4	廖华	云南师范大学太阳能研究所	46	298	9.0	15.0
5	宋一得	云南师范大学太阳能研究所	6	18	3.0	4.0
6	袁海荣	云南师范大学太阳能研究所	6	11	3.0	3.0
7	姚朝晖	中国农业大学水利与土木工程学院	7	64	3.0	7.0