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静磁场下两种口腔磁性附着体漏磁量的测定与分析
静磁场下两种口腔磁性附着体漏磁量的测定与分析
作者:
姚江武
李水根
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁性附着体
静磁场
磁通密度
漏磁
摘要:
目的:测量静磁场下帽状型和三明治型口腔磁性附着体的磁体和衔铁之间的漏磁量,为临床上正确地使用磁性附着体提供依据.方法:在三坐标测量仪上精确模拟磁体和衔铁之间的对位、垂直分离和水平错开3种方式,采用特斯拉计检测磁性附着体的磁体上面、衔铁下面、附着体侧面3个位点的漏磁量,以对位方式漏磁量为基线数据,采用方差分析,比较对位、垂直分离和水平错开时漏磁量的差异性(检验水平α= 0.05).结果:MD800和EX600在垂直分离和水平错开时侧面位点的漏磁量均数都接近或超过了20 mT,尤其是在垂直分离方式下,EX600漏磁量超过了60 mT.在3种磁体和衔铁的接触方式中,对位接触与垂直分离和水平错开的漏磁量相比最小(P<0.05).无论磁体和衔铁之间为何种接触方式,EX600的漏磁量均大于MD800,且两者之间的差异具有统计学意义.结论:在闭合磁路情况下,两种磁性附着体都存在着不同程度的漏磁现象.对位接触方式的漏磁量比较最小,因此临床上将磁性附着体精确对位是有效解决漏磁的关键.
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文献信息
篇名
静磁场下两种口腔磁性附着体漏磁量的测定与分析
来源期刊
武汉大学学报(医学版)
学科
医学
关键词
磁性附着体
静磁场
磁通密度
漏磁
年,卷(期)
2007,(2)
所属期刊栏目
口腔医学研究
研究方向
页码范围
185-187,191
页数
4页
分类号
R783.6
字数
2164字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-8852.2007.02.015
五维指标
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静磁场
磁通密度
漏磁
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
武汉大学学报(医学版)
主办单位:
武汉大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1671-8852
CN:
42-1677/R
开本:
大16开
出版地:
武汉大学出版社大楼前楼6楼东侧
邮发代号:
38-403
创刊时间:
1958
语种:
chi
出版文献量(篇)
4781
总下载数(次)
5
总被引数(次)
22425
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