正中和旁正中幕下小脑上入路的解剖学比较研究

• 作者: 付锐 张力 李新建 涂汉军 陈晟 黄宽明
• 来源期刊: 中国临床解剖学杂志
• 关键词: 小脑幕切迹 幕下小脑上入路 应用解剖
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 应用解剖
• 页码范围: 122-124,128
• 页数: 4页
• 分类号: R322.81
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-165X.2007.02.003

摘要

目的:通过正中和旁正中幕下小脑上入路的解剖学比较研究,为手术治疗小脑幕中和后切迹间隙的肿瘤提供解剖学基础.方法:取10例福尔马林固定的尸头标本在手术显微镜下分别模拟正中和旁正中幕下小脑上入路进行逐步解剖,观察和比较不同手术入路所暴露的视野范围,描述重要解剖结构之间的关系.结果:正中幕下小脑上入路直接暴露了后切迹间隙,但由于小脑对视野的阻碍,限制了四叠体板下半部分的暴露;旁正中幕下小脑上入路视野范围集中在中切迹水平的脑干背外侧面区域,且可以观察到同侧的上、下丘.结论:1、正中幕下小脑上入路适用于后切迹间隙的第三脑室后壁,松果体区和四叠体上丘平面,而旁正中幕下小脑上入路适合于中切迹间隙的后方区域和同侧的四叠体板.2、开颅过程中对静脉窦的完全暴露和对静脉窦向上的牵拉有利于幕下小脑上入路的手术暴露.