涂层超导体缓冲层的制备

• 作者: 卢建树 祝勇仁 邹金桥
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 涂层超导体 缓冲层 真空沉积 非真空沉积
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 综述·专论
• 页码范围: 81-83
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 2274字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2007.05.027

摘要

综述了涂层超导体缓冲层的作用、可利用的材料及制备方法.着重介绍了几种制备缓冲层的真空及非真空方法,即磁控溅射法、脉冲激光沉积(PLD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、电沉积等.展望了对下一步涂层超导体缓冲层的制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祝勇仁	浙江机电职业技术学院现代系	45	210	7.0	12.0
2	邹金桥	浙江机电职业技术学院现代系	12	29	3.0	5.0
3	卢建树	浙江工业大学材料研究所	28	173	9.0	12.0