Fe/SiO2核壳复合粒子表面的XPS谱研究

• 作者: 唐新峰 官建国 张清杰 赵文俞
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: Fe/SiO2核-壳结构 纳米复合粒子 表面化学 电子结构 XPS
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 38-42,83
• 页数: 6页
• 分类号: TQ17
• 字数: 2209字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1625.2007.01.009

摘要

采用XPS技术研究了Fe/SiO2核壳复合粒子的表面化学成分和电子结构.结果表明,表面化学成分仅由Si和O元素组成,表面Si存在4种电子结构,表面O存在5种电子结构.表面硅4种电子结构的Si2p电子结合能及归属为:102.91 eV (51.18%)为Q4硅[Si(OSi)4],102.15 eV (23.23%)为Q3硅[Si(OSi)3OH],103.98 eV (18.70%)为Q2硅[Si(OSi)2(OH)2],101.35 eV (6.89%)为Q1硅[Si(OSi)(OH)3];表面氧5种电子结构的O1s电子结合能及归属为:532.85 eV(52.07%)为Q4硅基团中的氧,531.80 eV(19.93%)为Q3硅基团中的氧,533.90 eV (17.09%)为Q2硅基团中的氧,534.75 eV (7.65%)为Q1硅基团中的氧,530.55 eV (3.26%)为与金属铁核相互作用的氧.531.80和530.55 eV的氧原子数(19.93%+3.26%=23.19%)与102.15 eV的硅原子数(23.23%)非常相近,这不仅表明与金属铁核相互作用的表面氧为Q3硅基团中的氧,而且说明表面氧与金属铁核相互作用后O1s电子结合能会因为Fe给电子能力较大而降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	官建国	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	156	2459	26.0	39.0
2	张清杰	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	97	1071	18.0	27.0
3	唐新峰	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	78	440	12.0	18.0
4	赵文俞	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	25	294	9.0	17.0