纳米CeO2颗粒的制备及其化学机械抛光性能研究

• 作者: 倪超英 李霞章 陈建清 陈志刚 陈杨
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米CeO2 GaAs 化学机械抛光 磨料粒径
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TG356.28|TH117.3
• 字数: 2113字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0595.2007.01.001

摘要

以硝酸铈和六亚甲基四胺为原料制备出不同粒径的纳米CeO2粉体颗粒,将纳米CeO2粉体配制成抛光液并用于砷化镓晶片的化学机械抛光.结果表明,不同尺寸的纳米磨料具有不同的抛光效果,采用粒度8 nm的CeO2磨料抛光后微观表面粗糙度最低(0.740 nm),采用粒度小于或大于8 nm的CeO2磨料抛光后其表面粗糙度值均较高.通过简化的固-固接触模型分析,认为当粒度过小时,磨料难以穿透软质层,表现为化学抛光为主,表面凹坑较多,表面粗糙度较高;当粒度大于一定值时,随着磨料粒度增加,嵌入基体部分的深度加大,使得粗糙度出现上升趋势.提出当磨料嵌入晶片表面的最大深度等于或接近于软质层厚度时,在理论上应具有最佳的抛光效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈志刚	江苏工业学院材料系	90	1299	21.0	30.0
2	陈杨	江苏工业学院材料系	32	404	13.0	18.0
3	李霞章	江苏大学材料工程学院	21	267	11.0	15.0
4	陈建清	河海大学材料系	28	219	8.0	14.0
5	倪超英	特拉华大学材料学院	2	51	2.0	2.0