新型玻璃刻蚀用光刻胶的研制

• 作者: 巫文强 柯旭 王跃川 黄晔
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 玻璃刻蚀 光刻胶 掩膜 超支化聚酯
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 134-138
• 页数: 5页
• 分类号: O644.1|TN305.7
• 字数: 2736字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2007.02.004

摘要

采用环氧树脂改性超支化聚酯制备了玻璃刻蚀用的光刻胶掩膜,研究了该感光树脂的感光活性、耐刻蚀性,以及加入HCl、HNO3后刻蚀对玻璃刻蚀的影响.结果表明,所得感光树脂对玻璃有较好的附着力,厚度为40～50 μm的胶膜在ω(HF)为40%的溶液中抗浮胶时间超过6 min,光刻胶初始曝光时间T0为2.7 s,反差值γgel为2.8;昆合刻蚀剂对载玻片玻璃的刻蚀速度≥35 μm/min;以该光刻胶为单层掩膜,可得到线宽50 μm的清晰刻蚀图样,玻璃的刻蚀深度超过38 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王跃川	高分子材料工程国家重点实验室四川大学高分子工程与工程学院	13	106	7.0	10.0
2	巫文强	高分子材料工程国家重点实验室四川大学高分子工程与工程学院	1	1	1.0	1.0
3	柯旭	高分子材料工程国家重点实验室四川大学高分子工程与工程学院	1	1	1.0	1.0
4	黄晔	高分子材料工程国家重点实验室四川大学高分子工程与工程学院	1	1	1.0	1.0