磁控溅射法制备BST铁电薄膜的实验研究

• 作者: 何军 张柏顺 江娟 潘瑞琨 章天金 马志军
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: RF磁控溅射 (Ba0.65Sr0.35)TiO3薄膜 介电常数 居里温度
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 单晶、薄膜及其他功能材料
• 页码范围: 62-64,67
• 页数: 4页
• 分类号: TM22
• 字数: 3114字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2007.01.021

摘要

采用射频磁控溅射法在Si和Pt/TiOx/SiO2/Si衬底上沉积了(Ba0.65Sr0.35)TiO3铁电薄膜,研究了BST铁电薄膜微观结构和介电性能.实验结果表明:衬底温度在550℃,工作气压为2.0 Pa的溅射条件下沉积的BST薄膜,经750℃退火处理30 min后,形成了完整的钙钛矿相;与Si衬底相比,在Pt衬底上制备的BST薄膜晶粒更均匀、表面平整无裂纹.在室温、频率为100 kHz条件下薄膜的介电常数(з)=353.8,介电损耗tanδ=0.012 8.介电温谱结果表明制备的(Ba0.65Sr0.35)TiO3铁电薄膜居里温度在5.0℃左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	章天金	湖北大学物理学与电子技术学院	82	321	11.0	14.0
2	张柏顺	湖北大学物理学与电子技术学院	24	152	7.0	11.0
3	江娟	湖北大学物理学与电子技术学院	32	130	7.0	10.0
4	何军	湖北大学物理学与电子技术学院	6	15	2.0	3.0
5	潘瑞琨	湖北大学物理学与电子技术学院	19	40	4.0	6.0
6	马志军	湖北大学物理学与电子技术学院	21	64	5.0	7.0