类金刚石薄膜的制备及其电阻率、光谱特性研究

• 作者: 李合琴 赵之明 顾金宝
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石薄膜 电阻率 射频磁控溅射 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 48-51
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3360字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.06.012

摘要

采用射频磁控溅射法在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜;对薄膜的电阻率进行了测量,研究了薄膜的溅射工艺参数,采用拉曼光谱、原子力显微镜、扫描电镜分析了薄膜的结构、表面形貌以及薄膜的截面形貌.结果表明,薄膜中含有sp2、sp3杂化碳原子,拉曼谱高斯拟合峰的ID/IG为3.67;薄膜的电阻率达6×103 Ωcm.最佳溅射气压在0.4 Pa左右,最佳溅射功率在140 W左右;薄膜的表面平整光滑,平均粗糙度低达0.17 nm;SEM形貌表明薄膜由大量大小均匀的碳颗粒组成,薄膜内部十分致密,与基底结合很好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李合琴	合肥工业大学材料科学与工程学院	71	273	8.0	12.0
2	顾金宝	合肥工业大学材料科学与工程学院	6	21	3.0	4.0
3	赵之明	合肥工业大学材料科学与工程学院	8	37	3.0	6.0