气流场强度对直流磁控溅射ZAO薄膜性能的影响

• 作者: 殷胜东 靳铁良 马勇
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZAO薄膜 直流反应磁控溅射 气流场强度 电导率 透射率
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 135-137
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2480字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2007.05.036

摘要

用含2%Al的Zn/Al合金靶材,在不同气流场强度下使用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZAO(ZnO:Al)透明导电薄膜样品.定义气流场强度等于总气流量除以总气压.结果表明:气流场强度的大小对ZAO薄膜的表面形貌和电导率有较大影响,对可见光的透射率影响不大.在Ar气压强为0.3Pa,流量为22sccm,O2气压强为0.08Pa,流量为10sccm,气流场强度约为84sccm/Pa时制备ZAO薄膜的最低电阻率为4.2×10-4Ω·cm,可见光透射率为90%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马勇	重庆师范大学物理学与信息技术学院	52	378	11.0	17.0
2	靳铁良	平顶山学院物理学与电气信息工程学院	19	29	3.0	4.0
3	殷胜东	重庆师范大学物理学与信息技术学院	7	15	3.0	3.0