砷化镓抛光晶片表面沾污的二次离子质谱分析

• 作者: 任殿胜 何友琴 李雨辰 马农农
• 来源期刊: 现代仪器与医疗
• 关键词: 二次离子质谱 砷化镓抛光晶片 金属表面沾污
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 16-17,9
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7916.2007.05.006

摘要

在砷化镓工艺过程中,很多失效问题与表面的沾污有关,二次离子质谱分析是表面分析的有力手段,本文提供一种用二次离子质谱分析检测砷化镓表面钠、钾和铝的沾污水平的测试方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马农农		5	22	3.0	4.0
2	何友琴		4	21	3.0	4.0
3	李雨辰		1	1	1.0	1.0
4	任殿胜		1	1	1.0	1.0