硅化钛薄膜的制备与应用

• 作者: 徐向勤 杜军
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 硅化钛 薄膜 微电子 集成电路
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 发展论坛
• 页码范围: 29-32,35
• 页数: 5页
• 分类号: TG178
• 字数: 4107字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2007.09.009

摘要

金属硅化物因其薄膜电阻率低,熔点高,化学性质稳定,在微电子领域具有广阔的使用前景.本文系统地阐述了硅化钛的性质、制备方法(包括自对准硅化物技术及CVD技术)及其应用.对硅化钛在集成电路中的应用进行了重点介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜军	南昌大学环境科学与工程学院化工系	33	136	8.0	9.0