添加剂对甲基磺酸盐镀锡电沉积过程的影响

• 作者: 靳佳琨
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镀锡 电沉积 2-巯基苯并噻唑
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 53-55
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2682字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2007.05.019

摘要

为了探讨添加剂对锡电沉积的作用机理,运用循环伏安法、计时安培法和阴极极化曲线法研究了添加剂2-巯基苯并噻唑对锡电沉积过程的影响.结果表明锡的电沉积过程经历了晶核形成过程,其电结晶按照三维瞬时成核方式进行,加入添加剂没有改变锡的电结晶机理,对锡的电沉积过程起阻化作用,但有利于晶核的形成,从而可以得到结晶细致的镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	靳佳琨		8	23	2.0	4.0