工作气压对TaN/VN纳米多层膜结构与机械性能的影响

• 作者: 乔林 刘桐 张学华 曹猛 李德军 杨瑾
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 TaN/VN多层膜 工作气压
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 40-43
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 2962字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.02.010

摘要

本研究选择钽和钒的氮化物作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统制备TaN、VN及一系列的TaN/VN多层薄膜.通过XRD,纳米力学测试系统分析了该体系合成中工作气压对多层膜结构与机械性能的影响.结果表明:多层膜的纳米硬度值都高于两种个体材料混合相的硬度值;当工作气压为0.2 Pa时,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、弹性模量、应力均达到最佳效果,最大硬度达到31 GPa.多层膜的机械性能改善明显与工作气压的变化有直接的联系.证明了通过选择合适的工作气压条件,合成具有高硬度的纳米多层膜是可以实现的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨瑾	天津师范大学物理与电子信息学院	14	36	4.0	4.0
2	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
3	刘桐	天津师范大学物理与电子信息学院	29	103	6.0	8.0
4	乔林	天津师范大学物理与电子信息学院	8	31	2.0	5.0
5	张学华	天津师范大学物理与电子信息学院	10	34	4.0	5.0
6	曹猛	天津师范大学物理与电子信息学院	12	36	5.0	5.0