电感耦合等离子体(ICP)辅助射频磁控溅射沉积ZrN薄膜的结构和性能研究

• 作者: 任兆杏 刘峰 孟月东 沈克明 舒兴胜
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电感耦合等离子体 磁控溅射 ZrN 微结构 纳米硬度
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 526-530
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444|TG174.4
• 字数: 2300字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2007.06.015

摘要

利用电感耦合等离子体(ICP)辅助射频磁控溅射技术,在Si(111)片表面制备了ZrN薄膜.研究发现,随着ICP功率的增大,基片的电流密度增大,薄膜的致密度增大,粗糙度降低.XRD结果表明:当ICP功率在0 W～300 W之间,薄膜为单一的ZrN结构,硬度随着ICP功率的增大而增大,在ICP=300 W时达到最大值32 GPa,应力保持在-8 GPa左右;当ICP功率在400 W～500 W,薄膜为ZrN和ZrNx复合结构.硬度和应力分别降低到20 GPa和-3 GPa.薄膜的这些性能的变化是由于ICP功率变化引起结构变化造成的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘峰	中科院等离子体研究所	7	36	4.0	5.0
2	孟月东	中科院等离子体研究所	6	20	3.0	4.0
3	任兆杏	中科院等离子体研究所	3	9	2.0	3.0
4	沈克明	中科院等离子体研究所	1	1	1.0	1.0
5	舒兴胜	中科院等离子体研究所	2	2	1.0	1.0